10955

10955

مطالعه ي اشعه ي ايكس تابش شده از پلاسماي توليد شده در برهم كنش ليزرهاي پالسي پرتوان و اهداف متخلخل با در نظر گرفتن اثر جذب پلاسما

كارشناسي ارشد

فيزيك - اتمي و مولكولي

دي ماه 1391

دي ماه 1391

دكتر محمد حسين مهديه

چكيده در سال هاي اخير استفاده از پلاسماهاي ليزري به عنوان منابع بسيار مناسب اشعه ي ايكس، به دليل پالسي بودن و شدت بالاي آن نسبت به منابع ديگر تابش اشعه ي ايك س اهم يت و گسترش چشمگيري داشته است. در كاربردهايي نظير هم جوشي ليزري ، ليتوگرافي و عك س برداري با اشعه ي ايكس، دستيابي به شرايطي كه منجر به افزايش تابش ايكس از پلاسما شود بسيار حائز اهميت است. به همين دليل مطالعه ي روش هاي افزايش تابش ايكس از پلاسماهاي ليزري مورد توجه مي باشد. در اين پايان نامه تاثير استفاده از اهداف متخلخل فلزي با ضخامت نانويي در توليد پلاسماهاي ليزري براي افزايش تابش ايكس پيوسته از پلاسما در دو محدوده ،(water window) 2.3-4.4 nm 12.6-14.6 (كاربرد در ليت وگرافي) و nm طيفي گرفتن اثر جذب پلاسما مورد بررسي قرار گرفته است. هدف فلزي متخلخل مورد تابش دهي با 1016 ، آلومينيم W/cm 5) و شدت كمتر از 2 ns, 3ns, 500 ps, 50ps) ليزرهاي با طول پالس بلند براي شبيه سازي پلاسما مورد استفاده قرار گرفته است. EHYBRID در نظر گرفته شده است. كد جمعيت عناصر حاضر در پلاسما با حل معادله ي ساها بدست آمده است. فرآيندهاي تابش ترمزي و تابش بازتركيب به عنوان فرآيندهاي اصلي در گسيل اشعه ي ايكس پيوسته و فرآيندهاي جذب تابش ترمزي معكوس و جذب فوتويونش به عنوان فرآيندهاي اصلي در ج ذب پيوسته ي اشعه ي ايكس در محاسبات وارد شده است. نتايج نشان مي دهند كه استفاده از اهداف متخلخل فلزي باعث افزايش تابش ايكس از پلاسماهاي ليزري مي شود و نرخ وابستگي افزايش تابش ايكس به چگالي نانولايه براي بررسي پلاسما در حالت بدون جذب و در حالت در نظر گرفتن جذب پلاسما با تفاوتي جزئي يكسان است. واژ ههاي كليدي: پلاسماي توليد شده توسط ليزر، اشعه ي ايكس, ترابرد تابش، اهداف متخلخل.