12316

12316

بررسي تاثير پارامترهاي پوشش دهي بر ساختار پوشش آلياژيCo-Wبه روشآبكاري پالسي

كارشناسي ارشد

مواد و متالوژي

پائيز 1392

پائيز 1392

دكتر رستگاري

چكيده توليد Co-W در پژوهش حاضر به بررسي تاثير پارامترهاي پوشش دهي بر ساختار پوشش آلياژي 58 به مدت 80 دقيقه °C شده به روش آبكاري پالسي پرداخته شد. فرايند آبكاري پالسي در دماي در الكتروليت سيترات-بورات صورت گرفت. تاثير فركانس، سيكل كاري، چگالي جريان متوسط، غلظت تنگستات سديم در الكتروليت و نوع جريان مستقيم و پالسي بر ويژگيهاي پوشش حاصل مورد بررسي قرار گرفت. سپس تاثير فرايند عمليات حرارتي بر خواص پوششهاي حاصل مورد مطالعه قرار گرفت. بررسي مورفولوژي و تركيب پوشش با استفاده از ميكروسكوپ الكتروني انجام شد. ساختار فازي و اندازه كريستاليت پوشش با استفاده از (EDS) و آناليز (SEM) روبشي تعيين شد. سختي پوششها حاصل بوسيله آزمايش دندانه گذاري (XRD) آناليز پراش پرتو ايكس نانو و با استفاده از دستگاه تريبوسكوپ بدست آمد. مقاومت به خوردگي پوشش با استفاده از دستگاه پتانسيواستات–گالوانواستات و بر اساس تكنيك تافل محاسبه شد. نتايج بدست آمده نشان 1 و A.dm- 200 ، سيكل كاري 20 %، چگالي جريان 2 Hz دادند كه پوشش ايجاد شده در فركانس 0/2 ، پوشش ايجاد شده با شرايط آبكاري بهينه است. مقدار mol.L- غلظت تنگستات سديم 1 24/32 و سختي آن برابر nm 33/36 ، اندازه كريستاليت آن %wt تنگستن اين پوشش برابر 3/97 بوده است. با مقايسه پوشش ايجاد شده با جريان مستقيم و پالسي مشاهده شد كه GPa استفاده از جريان پالسي سبب افزايش مقدار تنگستن در پوشش و كاهش اندازه كريستاليت پوشش ميشود. در بررسي مقاومت به خوردگي، مشاهده شد كه پوشش كبالت-تنگستن سبب بهبود مقاومت به خوردگي زير لايه ميشود. به علاوه مقاومت به خوردگي نمونه بهينه از نمونه آمورف و نمونه ايجاد شده با جريان مستقيم بهتر است. نتايج نشان دادند عمليات حرارتي در دماي 600° و به مدت 3 ساعت، سبب كريستالي شدن پوشش آمورف و افزايش اندازه كريستاليت C پوشش كبالت -تنگستن حاصل ميشود. فركانس، سيكل كاري،چگالي جريان متوسط، غلظت ، Co-W كلمات كليدي: آبكاري پالسي،آلياژ تنگستات سديم،نانو كريستالي و آمورف،عمليات حرارتي ز فهرست مطالب عنوان صفحه -1 مقدمه............................................................................................................................... 1 -2 مروري بر منابع مطالعاتي................................................................................................ 5 -1-2 آبكاري الكتريكي.............................................................................................................................. 6 1-1-2 - آبكاري با جريان مستقيم...................................................................................................... 6 2-1-2 - فاكتورهاي موثر در فرآيند رسوب دهي............................................................................. 7 -1- اثر پلاريزاسيون............................................................................................................ 7 2-1-2 -1-1- پلاريزاسيون فعالسازي..................................................................................... 7 2-1-2 -2-1- پلاريزاسيون غلظتي......................................................................................... 8 2-1-2 -2- مكانيسم رسيدن يونها به سطح الكترود............................................................ 10 2-1-2 -1-2- مهاجرت........................................................................................................... 10 2-1-2 -3-2- جابجايي(هدايت)........................................................................................... 11 2-1-2 -4-2- نفوذ................................................................................................................... 11 2-1-2 -3- لايه مضاعف الكتريكي.............................................................................................. 13 2-1-2 3-1-2 - رسوب دهي لايههاي آلياژ.................................................................................................. 13 -2-2 آبكاري پالسي.................................................................................................................................. 16 1-2-2 - اصول آبكاري با جريان پالسي........................................................................................... 18 2-2-2 - رسوب دهي لايههاي آلياژي.............................................................................................. 20 3-2-2 - تاثير پارامترهاي پالس بر تركيب آلياژ............................................................................ 22 4-2-2 - تاثير آبكاري پالسي بر ميكروساختار................................................................................ 23 5-2-2 - فاكتورهاي مهم آبكاري پالسي.......................................................................................... 24 -1- پر شدن لايه مضاعف الكتريكي.............................................................................. 24 5-2-2 -2- انتقال جرم.................................................................................................................. 25 5-2-2 -3- توزيع جريان.............................................................................................................. 27 5-2-2 -4- تبلور در آبكاري پالسي............................................................................................ 28 5-2-2 -3-2 آبكاري پوششهاي پايه تنگستن................................................................................................. 30 1-3-2 - مكانيسم تشكيل آلياژ......................................................................................................... 30 2-3-2 - رسوب دهي الكتريكي آلياژهاي پايه تنگستن............................................................... 31 3-3-2 - مكانيزم رسوب دهي همزمان تنگستن............................................................................ 32