• شماره ركورد
    18905
  • شماره راهنما(اين فيلد مربوط به كارشناس ميباشد لطفا آن را خالي بگذاريد)
    ۱۸۹۰۵
  • پديد آورنده

    علي كوثري مهر

  • عنوان
    بررسي خواص مكانيكي لايه ي نازك TiCrN رشديافته با روش كندوپاش مغناطيسي فعال
  • مقطع تحصيلي
    كارشناسي ارشد
  • رشته تحصيلي
    فيزيك حالت جامد
  • تاريخ دفاع
    ۱۳۹۶/۱۲/۲۶
  • استاد راهنما
    دكتر محمد رضا زماني ميميان
  • استاد مشاور
    دكتر روح اله عبدالوهاب
  • دانشكده
    فيزيك
  • چكيده
    در اين پژوهش بوسيله‌ي روش كندوپاش مغناطيسي و با استفاده از لايه نشاني همزمان دو فلز تيتانيوم و كروم در حضور گاز نيتروژن لايه‌اي از جنس TiCrN بروي زير لايه‌ي استيل زنگ نزن 304 لايه نشاني گرديد. سپس تاثيرات جريان گاز نيتروژن بر مواردي همچون سختي، نسبت عناصر تشكيل دهنده‌ي لايه و ... بررسي شد. براي تجزيه و تحليل نسبت عناصر تشكيل دهنده‌ي لايه از آناليز طيف‌سنجي پراش انرژي پرتو ايكس (EDS) بهره گرفته شد. به منظور تحقيق بر روي سختي نمونه‌ها از آناليز نانو دندانه گذاري با دندانه گذار گوشه‌ي مكعب استفاده شد و در راستاي بررسي سطح دندانه گذاري شده تصاوير ميكروسكوپ نيروي اتمي (AFM) بكار گرفته شد. در اين بررسي‌ها مشخص شد كه با افزايش جريان نيتروژن و به موجب آن افزايش نسبت نيتروژن در لايه‌ي TiCrN، سختي اين لايه نيز افزايش مي‌يابد. واژه‌هاي كليدي: TiCrN، كندوپاش مغناطيسي، سختي، EDS، نانودندانه‌گذاري، AFM
  • تاريخ ورود اطلاعات
    1397/03/08
  • تاريخ بهره برداري
    5/29/2018 12:00:00 AM
  • دانشجوي وارد كننده اطلاعات

    علي كوثري مهر

  • چكيده به لاتين
    In this study, TiCrN thin films are deposited on 304 steel substrates by co-sputtering method, employing two seprate targets of Ti and Cr and introducing various flows of netrogen into the chamber. Then, Energy-dispersive X-ray spectroscopy (EDS) is utilized for analyzing the chemical composition; nanoindatation test is used for measuring the hardness of the thin films; and Atomic force microscopy (AFM) analisis is carried out to investigate the residual impression on the surface. Finally, it was found that increasing nitrogen flow and, consequently, increasing nitrogen content in the TiCrN thin films leads to an increase in their hardness. Keywords: TiCrN, magnetron sputtering, hardness, EDS, nanoindentation, AFM